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卓芯微电子推出RCR1565FB双P沟道增强型场效应管

2008-07-14      嵌入式在线      收藏 | 打印

        卓芯微电子(Innova Semi)推出双P沟道增强型场效应管产品RCR1565FB。P沟道增强型场效应管采用高密度DMOS生产工艺,具有极低的导通电阻,并且在低至1.8V的栅极电压下仍可正常开启。

        RCR1565FB主要应用于基于TI平台的手机设计方案的充电线路,其基本电路如下图所示:

       电源管理器件通过控制栅极电压,达到控制两颗PMOS的开关频率的目的,PMOS中的寄生二极管可以防止VBAT电流倒灌。

       RCR1565FB具有以下特点:

       极小的导通电阻使器件在工作状态下产生极少的功率耗散,提高了能效;

       采用DFN2×2封装(2.0×2.0×0.55mm),节约PCB占板面积,其0.55mm的厚度更是有利于超薄机型设计;

       在器件腹部增加了散热片,大幅提升器件额定功耗和散热能力,防止PCB热损伤,提升整机安全性。


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