DFM以及相关设计对EDA工具的挑战

       最好的公司会选择最好的工具，但没有一家公司能够提供在所有领域都是最好的工具，设计公司应该做的是不断的评估和测试新工具是否能够满足设计需求，以便他们找到最佳的全流程的解决方案。

——Walden C.Rhines Mentor GraphICs董事会主席兼CEO

       在65nm以下制程中，DFM工具对IC设计和制造的影响巨大，Foundry和IC设计公司都要提供有关参数、模式和IP来提高良率。通常，Foundry会提供很多参数给IC设计公司，使之提高DFM的效率，但Foundry制程也在不断改变，不是所有的Foundry都能完整地提供这些参数，而他们同EDA供应商之间的合作包括向他们提供这些制程模式的界面，这些界面能够提供设计者所需要的设计工具和模式。

        其实，Foundry的制程模式究竟要向用户开放多少一直是一个矛盾的问题，多了，虽然能提高用户产品良率，但也可能会泄露自己的营运机密，Mentor的作法是向这些Foundry提供编码加密技术，保障他们的IP，这样他们就能提供很详细的制程模式给IC设计公司，继而提高DFM的水平。

       最好的公司会选择最好的工具，但没有一家公司能够提供在所有领域都是最好的工具，设计公司应该做的是不断的评估和测试新工具是否能够满足设计需求，以便他们找到最佳的全流程的解决方案。

　　从设计挑战上看，65nm制程以下的半导体电路设计中将遇到很多传统方式解决不了的问题，EDA工具要同步满足制造工艺和模式的需求。而PCB设计也面临高速电路设计、混合信号以及多层电路板设计的挑战，基于这一趋势的全自动和半自动设计、信号整合等都是EDA工具需要重点关注的。同时，EDA供应商还应该看到一些趋势，比如硬件仿真器的趋势是性价比不断提高，使得越来越多的小型设计也开始使用，设计者会加入很多嵌入式软件，通过硬件仿真器更容易完成模拟验证；去年开始有一些专门针对功耗和效能分析的工具出现，这些工具带来的最大的突破，是为高阶系统架构中的模拟部分提供了最佳化的设计途径。

　　我认为，EDA供应商应该积极推动标准的建立,目前，EDA工具的界面已经形成标准，未来API、建模等都还需要详细的标准界定，继而将之推进到工程师的设计流程中。多数情况下，新产品和工具的导入和实际应用之间还有距离，而且同新产品的成熟度无关，它的实际情况是：除非现有工具已经无法解决设计带来的问题，否则新工具永远无法登堂入室。

本文来源：EDN China    作者：陆楠

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