飞思卡尔将跨越65纳米 进入45纳米时代

         飞思卡尔将跨越65纳米技术

        “我们已经拥有成熟的45纳米工业技术，这将促使我们从90纳米跨越65纳米技术阶段，直接进入45纳米时代！”这是飞思卡尔首席技术官Lisa Su在2007年11月28日深圳飞思卡尔技术论坛上公布的令人振奋的消息。

        Lisa Su指出，目前，飞思卡尔拥有成熟的90纳米技术，并首先实现了45纳米LOW K工艺，已经拥有45纳米技术，这将促使飞思卡尔将跨越65纳米技术，直接进入到45纳米时代。

        Lisa Su表示，飞思卡尔的45纳米工艺已经是成熟工艺，无需再经过65纳米工艺阶段进行过渡。在45纳米工艺大批量生产后，飞思卡尔将快速走入32纳米时代。

       当飞思卡尔跨越65纳米技术，进入45纳米甚至32纳米技术时，能够取得功耗更低、静态漏电更低，并能使静态漏电不变的情况下实现更高性能的优势。
飞思卡尔从90纳米工艺导入到45纳米工艺，芯片性能将提高40%。同时，芯片尺寸、功耗、成本都将大幅下降。